次回の研究会のお知らせ

第231回研究会

日時: 平成30年6月15日(金) 13:00~17:00

場所: 弘済会館 4階・会議室「菊西」

東京都千代田区麹町5-1(TEL: 03-5276-0333)   
JR総武線・中央線・営団地下鉄丸の内線「四ツ谷駅」下車 徒歩5分
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本委員会は、昭和37年(1962年)2月に発足いたしました。

委員会設立の趣旨・目的

電子およびイオンから成る荷電粒子ビームは、その優れた制御性から、超微細加工、材料改質、機能薄膜形成、分析プローブとして常に最先端技術を先導してきており、半導体工業、金属工業、高分子工業等の産業界から常に関心と強い期待が持たれています。 そこで、電気、機械、化学、材料に関連する工学・物理分野の研究者が連携し、委員会として荷電粒子ビームの基礎技術、装置技術に関する研究、ならびに、それらの工業への応用に関する研究を推進し、この関係分野の大幅な進展に資することを目的としています。

研究テーマ

  • 次世代リソグラフィ技術に関する研究
  • ナノビーム技術に関する研究
  • 次世代イオンビーム応用(生体適合性材料開発、超浅接合形成など)の研究
  • 新しい電子ビーム光学系に関する研究
  • 人材育成ならびに国際交流に資する活動