1.「イオンビーム蒸着法により作成した積層膜の界面構造」
日本真空技術　清水　三郎、佐々木　徳康

2. 「低エネルギー正負イオンビーム同時照射による膜形成技術」
工技院大阪工業技術研究所　藤井　兼栄、堀野　裕治、坪内　信輝、B. Enders
茶谷原　昭義、木野村　淳

3. 「大強度パルス軽イオンビームアブレーションプラズマを用いた超微粒子の生成と特性評価」
長岡技科大　西浦　広二、湯川　高範、中川　幸雄、升方　勝己、C. Grigoriu、八井　浄

4. 「LSI評価・解析におけるナノビームへの期待」
NEC材料部品分析評価センター　二川　清

5. 「ナノ領域の観察と分析」
材料科学技術振興財団　　陶山　直樹

6. 「半導体表面の結晶成長過程のSEMその場観察」
NTT境界領域研　本間　芳和

7. 「シングルイオン注入技術開発にともなう課題」
早稲田大工　大泊　巌、松川　貴、原　謙一、大村　裕明

8. 「FIBによるナノ構造およびSETの作成」
NTT基礎研　平山　祥郎、藤澤　利正、樽茶　清悟

9. 「電子線ナノメータプロセス装置と無機レジストによる超微細加工」
電総研 廣島　洋、古室　昌徳、岡山　重夫、 市原　聡、和田　敏美、スチュータ M. ゴルワカール

10. 「電子ビーム直描による40nmゲートMOSFETの作製」
NEC基礎研　　落合　幸徳、眞子　祥子
NECマイクロエレクトロニクス研　　寒川　誠二、竹内　潔、山元　豊二

11. 「電子ビーム露光によるSiナノ構造形成」
NTT LSI研 栗原　健二、生津　英夫、永瀬　雅夫、山崎　謙治、山口　徹、足立　和己
牧野　孝裕
NTT境界領域研　　竹中　久貴

12. 「AFMによるナノ構造形成」
日立基礎研 保坂　純男、小柳　肇、宮本　光秀、菊川　敦、中村　公夫

13. 「SEM/AFM超微細酸化法による単一電子トランジスタ」
電総研　白樫　惇一、石井　正巳、松本　和彦

1.「 3MV超高圧電子顕微鏡H-3000の開発」
阪大超高圧　　鷹岡　昭夫、吉田　清和
日立計測器事　　勝田　禎治、松井　功

2. 「最近の電子線測長技術―半導体の進歩と測長技術の動向―」
日立計測器事　大高　正

3. 「Ta製大口径高分解能フレネルゾーンプレートの製作」
NTT光エレクトロニクス研　　玉村　敏明、石井　哲好
NTTアドバンテステクノロジ　　小澤　章、吉原　秀雄
高エネルギー物理学研究所　　篭島　靖

4. 「国際会議報告EIPBN '96」
東芝ULSI研　　服部　清司

1.「イオン化蒸着法による高分子重合膜の形成」
東京農工大工 臼井　博明、小坂　篤司、菊池　布美子、田中　邦明
佐藤　壽彌、宮田　清藏、渡邊　俊行

2. 「低エネルギーイオンビームによる成膜技術」
日本航空電子工業　潟岡　泉

3. 「FIB技術の最近の進展」
セイコー電子　　皆藤　孝

4. 「集束イオンビーム直接蒸着法による微細構造形成」
島津基盤技術研　　長町　信治
京大工　　石川　順三

5. 「光局在場を利用したナノ微粒子マニピュレーション」
阪大工　　笹木　敬司

6.「 SPMによる超高密度記録への挑戦」
日立基礎研　　小柳　肇、保坂　純男　、菊川　敦、江藤　公俊

7. 「原子レベル人工構造形成への試み」
日立基礎研　　和田　恭雄

8. 「集束電子線励起による原子層SiO2膜の選択熱脱離を利用した微細加工法」
アトムテクノロジー研究体 市川　昌和、藤田　忍、丸野　茂光、渡部　平司、藤田　研

9. 「有機レジストを用いた10nm電子ビームリソグラフィ」
NEC基礎研　　眞子　祥子、藤田　淳一、落合　幸徳、野村　英一
半導体先端テクノロジーズ　　松井　真二

10. 「一括露光電子ビーム描画方式」
日立計測器事　　川野　雅道
日立中研　　斉藤　徳郎

11. 「プラズマプロセッシング中のin-suitパーティクルモニタリング」
NEC材料部品分析評価センター　　上杉　文彦、伊藤　奈津子
ANELVA関西研　　土井　浩志

12. 「メーカー側から見た電子線描画装置の動向 -エリオニクスの対応と製品紹介-」
エリオニクス　　上柿　順一

13. 「量子デバイス微細加工用ナノメター電子ビーム描画装置」
エイコーエンジニアリング　　紀国　雅宏、三村　良、沢良　木宏、相原　龍三
名大ベンチャービジネスラボラトリー　　山口　雅史、岸本　茂、水谷　孝、澤木　宣彦

14. 「スポットビーム型電子ビーム描画装置JBX-9300FSの開発」
日本電子　大木　博文、竹村　等、磯部　盛之

1.「 100kVスポットビーム型電子ビーム描画装置の電子光学特性」
日本電子　　大木　博文、中沢　博之、中川　泰俊、竹村　等、磯部　盛之

2. 「電子ビーム転写光学系の数値シュミレーション」
東芝機械　　小碇　創司、玉虫　秀一

3. 「X線マスク描画機EB-X2用電子光学系の開発」
NTTシステムエレクトロニクス研　　斉藤　賢一、森田　博文、加藤　順一、島津　信生

4. 「国際会議報告 The 41st International Conference on Electron, Ion and Photon Beam Technology and Nanofabrication」
日立中研　　斉藤　徳郎

1.「PSIIによる炭素注入と炭素薄膜形成」
長崎県工業技術センター　　馬場　恒明

2. 「三次元イオン注入とその動向」
イオン工学研究所　　鈴木　泰雄
同志社大　　行村　健

3. 「高真空下における直流アーク放電型イオン源」
理化学研究所　　丹波　護武

4. 「イオン源に関する国際会議および関連会議報告」
京大工　　石川　順三

1.「マイクロクラスターの化学」
慶応大理工　　茅　幸二

2. 「クラスターイオンビームの産業応用」
京大工　　松尾　二郎、山田　公

3. 「クラスタービーム蒸着法による正方晶ゲルマニウムナノクリスタルの作製と物性評価」
電通大　　野崎　真次、佐藤　井一、森崎　弘

4. 「カーボン薄膜中に分散したコバルトナノ結晶 -磁気記録媒体への応用-」
NTT入出力システム研　　林　孝好

1.「励起粒子ビームによる薄膜形成」
産業技術総合研究所　　岡本　昭夫

2. 「負イオンビームによる表面改質技術」
京大工　　辻　博司、後藤　康仁、石川　順三

3. 「Cu負イオン注入によるナノ構造金属微粒子形成」
金属材料技術研究所　　岸本　直樹
筑波大物質工　　梅田　直樹

4. 「デカボロンイオンを使ったナノデバイスの形成」
富士通研究所　　後藤　賢一、杉井　寿博
京大イオン工学施設　　松尾　二郎、山田　公

5. 「低エネルギー集束イオンビームによるGaAs微細構造の作成と配置制御の試み」
金属材料技術研究所　　知京　豊裕、小口　信行

6. 「EELSとEDSによるDRAMの元素マッピングおよび高分解能STEM観察」
日本電子　　川崎　正博

7. 「γ型エネルギーフィルタTEMによる半導体デバイスの観察」
日立半導体事　　朝山　匡一郎

8. 「FIB/TEMシステムによる半導体デバイスのピンポイント解析」
日立計測エンジニアリング　　矢口　紀恵、上野　武夫

9. 「電子波干渉顕微鏡による微小領域の電場・磁場の直接観察」
ファインセラミックスセンター　　平山　司

10. 「タングステンエッチング中のin-situパーティクルモニタリング」
NECデバイス分析評価技術センター　　上杉　文彦、伊藤　奈津子、守屋　剛
アネルバ　　土井　浩志
NEC九州　　阪本　真悟、林　雄二

11. 「電子ビームナノリソグラフィシステムと単電子デバイスへの応用」
NTT基礎研 山崎　謙治、栗原　健二、生津　英夫、山口　徹
永瀬　雅夫、藤原　聡、高橋　庸夫

12. 「ナノEBリソグラフィによる15 nm MOSFET作成」
NEC基礎研　　落合　幸徳

13. 「電子ビーム装置のin-situクリーニング」
東芝機械　　東條　徹

14. 「電子線誘起金属膜堆積によるナノ構造直接形成」
電子技術総合研究所　　廣島　洋、古室　昌徳

15. 「自由電子レーザによる光量子プロセッシング」
自由電子レーザ研究所　　粟津　邦男　荻野　誠司　永井　昭夫

16. 「Siプロセスによる高共振メガヘルツカンチレバーの形成」
日立基礎研　　菊川　敦、江藤　公俊、小柳　肇、保坂　純男

17. 「超高真空環境下におけるナノ構造体の創製計測のための技術開発」
金属材料技術研究所　　藤田　大介

1.「Field emitter tip研究の現状と将来」
電子技術総合研究所　　伊藤　順司

2. 「電子ビームリソグラフィ光学系の最新動向」
日立中研　早田　康成、斉藤　徳郎

3. 「Ion projection lithography system」
IMS-Ionen Mikrofabrikations Systeme GmbH　　H. Loschner

4. 「 CRTの現状と課題-CRT誕生100周年」
日立電子デバイス事　　白井　正司

5. 「Nb超伝導体からの電界電子放出-単色化電子ビーム-」
早稲田大理工　　大島　忠平

6. 「Hall probe measurements for portable Scanning Electron Microscope column concept」
National University of Singapore　　A. Khursheed
Institute of Material Research and Engineering　　Y. Zhao

7. 「Schottky電子銃の軸対称電子軌道解析」
日立計測器事　　小瀬　洋一、福原　悟

8. 「高放出角電流密度Zr-Si/W(100)field emitterの開発」
名城大理工　　長沼　孝明、青山　真己、下山　宏

9. 「静電レンズ特性の統合表示」
大阪産業大　　裏　克己

10. 「透過電子顕微鏡の球面収差補正のための薄膜レンズの開発」
名大理工総研　　花井　孝明

11. 「有限要素法による磁界レンズの動特性解析」
阪大超高圧　　鷹岡昭夫、西　竜治、張　海波

12. 「電子顕微鏡の試料傾斜に伴う倍率と像回転の変動補正法」
阪大超高圧　　柏木　愛一郎、張　海波、鷹岡　昭夫

13. 「中エネルギー同軸型直衝突イオン散乱分光装置」
理化学研究所　小林　峰、岩木　正哉、青野　正和
阪大理　　桜井　達、松尾　武清、松田　久

14. 「多重周回飛行時間型質量分析計のための完全空間・時間収束イオン光学系」
阪大理　　石原　盛男、豊田　岐聡、松尾　武清

15. 「飛行時間型光電子分光装置　-シミュレーションと設計-」
島津製作所　　林　茂樹、藤田　真、岩本　隆

16. 「電子顕微鏡用電子レンズとエネルギー分析装置の光学設計」
日本電子　　津野　勝重

17. 「Spherical Aberration Corrector for a 200kV TEM」
Corrected Electron Optical System GmbH　　M. Haider

18. 「加速器設計コードSADによるKEKB B-ファクトリの設計・シミュレーション・コミッショニング」
高エネルギー加速器研究機構　　小磯　晴代

19. 「ビジュアル化に重点をおくイオン軌道および飛行時間計算プログラムTRIO/DRAWの開発」
阪大理　　石原　盛男、松尾　武清

20. 「電位・電界の高速・高精度計算のための改良形一般3次元境界電荷法の開発」
名城大理工　　下山　宏

21. 「放射顕微鏡によるFEAの放射電流安定性」
室蘭工業大学　　山根　康一、武藤　康史、中根　秀章、安達　洋

22. 「一般3次元境界電荷法を用いた非回転対称FE電子銃の特性解析」
名城大理工　　大江　俊美、村田　英一、下山　宏

23. 「ポイント陰極電子銃の微小電子線束数値解析」
愛知工大電子工　　飯吉　僚

24. 「ナノチップ電子源の作製」
早稲田大理工 藤井　英俊、長岡　克己、山田　万寿雄、松田　考平
瀬尾　隆造、山下　哲胤、大島　忠平

25. 「バルクダイヤモンドからの電子放出に関する研究」
東京理科大　　谷口　淳、小川　直美、宮本　岩男
電子技術総合研究所　　古室　昌徳、廣島　洋

26. 「レーザーフォトカソードRF電子銃の開発と基本性能」
住友重機械工業 楊　金峰、青木　康、鷲尾　方一、萬　雅史
岡田　康弘、遠藤　彰、塀　利匡

27. 「電子光学系の情報伝達能力の近似計算法」
日立計測器事　　佐藤　貢

28. 「ステンシルマスク欠陥検査(透過電子像を利用したステンシルマスク自動欠陥検査)」
ホロン　　山藤　泉、穴澤　紀道
半導体先端テクノロジーズ　　岡川　崇、松井　真二

1.「クラスターアッセンブリングによる新材料創製」
東北大金属材料研　　隅山　兼治

2. 「 ガスクラスターイオンビームエッチングによるX線リソグラフィ用ダイヤモンド薄膜の製作」
三菱マテリアル　　西山　昭雄

3. 「Cluster ion implantation」
MIT, Mat. Sci. and Eng. Dept.　　A.M. Agarwal

4. 「クラスターイオンビームエッチング」
京大イオン工学実験施設　　豊田　紀章、松尾　二郎、山田　公

1.「AFMによるナノ測長技術」
日本電子電話・物性科学基礎研　　永瀬　雅夫

2. 「CD-SEMを利用した新しい測定技術」
ホロン・テクニカルセンター　　中村　直行、山藤　泉、穴澤　紀道

3. 「電子線測長装置」
日立・計測器グループ　　大高　正

4. 「SEMによるマスクCD測長の現状と展望」
半導体先端テクノロジーズ　　岩松　孝行、蛭田　幸二、森本　博明

5. 「マスクCD及び座標測長」
大日本スクリーン製造　　杉本　克雄、太田　等

6. 「曲線形状パターンに対する新しい測長技術」
東芝・半導体プロセス　　小松　文朗

7. 「光の波動性を利用した欠陥検査及び測長技術」
レーザーテック　　楠瀬　治彦

8. 「電子線利用検査装置の現状と課題」
ウエハ・インスペクション　　北川　邦彦

9. 「EB欠陥検査技術」
日本電子　　中川　清一、則岡　節夫

10. 「電位コントラストによる欠陥検出技術」
富士通ULSI　　鈴木　浩助、藤田　徹
富士通VLSI　　吉田　稔

11. 「電位コントラスト利用検査技術の課題」
三菱電機ULSI技術開発センター　　池野　昌彦

12. 「放射光を用いた生体内超微量元素分析」
京大工　　エクテサビ・アリ、北村　典生

13. 「イオンビームスパッタ法による高配向Al膜の形成と弾性表面波デバイス電極への応用」
NEC機能材料研究所　　上條　敦

14. 「イオンビームアシスト蒸着法による遷移金属窒化物薄膜の形成」
京大工　　後藤　康仁、辻　博司、石川　順三

1.「電子ビーム溶接装置とその応用」
三菱電機生産技術センター　　村上　英信

2. 「大出力銃の産業への応用」
日本電子産業機器技術本部　　今野　茂生、市川　修一

3. 「電子ビーム照射装置による排ガス処理」
放射線利用振興協会　　松永　興公

4. 「EIPBN’99国際会議報告」
NEC・ULSIデバイス開発研究所　　山下　浩

5. 「IVMC’99国際会議報告」
京都大学工学研究科　　石川　順三

1.「絶縁膜つきLSIの走査電子顕微鏡観察」
大阪産業大学工学部　　裏　克己

2. 「 生体へのイオン注入」
理化学研究所表面解析室　　岩木　正哉

3. 「イオン源国際会議報告」
京都大学工学研究科　　石川　順三

4. 「MNE国際会議報告」
日本電気基礎研究所　　落合　幸徳

1.「微細加工・評価ＷＧ経過報告」
電子技術総合研究所　　古室　昌徳

2. 「マルチビーム描画機の概念設計について」
エンジェルラボ　　島津　信生

3. 「マルチ微小電子源の現状」
京都大学工学研究科　　石川　順三

1.「高輝度・高安定電子源の現状と展望」
大阪大学工学部　　志水　隆一

2. 「低加速電子ビーム近接露光法(Low energy e-beam proximity lithography: LEEPL)の紹介」
電子技術総合研究所　　古室　昌徳

1.「薄膜形成初期過程に対するイオン照射効果のナノスケール解析」
京都大学工学研究科　　瀬木　利夫、松尾　二郎、山田　公

2. 「金属クラスターを形成核とするシリコンナノ構造のエッチング加工」
JRCAT融合研究所　　金山　敏彦、多田　哲也

3. 「ホットクラスターエピタキシー技術」
東京大学工学研究科　　吉田　豊信

4. 「低エネルギーホウ素クラスターイオン注入の分子動力学シミュレーション」
京都大学工学研究科　　青木　学聡、松尾　二郎、山田　公

5. 「金属クラスターのサイズコントロールとその応用」
筑波大学物理系　　李相　茂、鄭　春均、新井一郎

1.「100 kVスポットビーム型電子ビーム描画装置JBX9300FSの開発」
日本電子・半導体機器技術本部　　大木　博文、武村　等

2. 「0.3μmテクノロジーノードを支えるマスク電子ビーム描画装置技術」
東芝・研究開発センター　　小笠原　宗博

3. 「 Ｘ線用電子ビーム描画装置の現状と課題」
NTT・通信エネルギー研究所 斉藤　賢一、加藤　順一、両澤　哲夫
大木　茂久、國岡　達也、渡辺　俊文
武田　有司、清水　彰、森田　博文
NTT・エレクトロニクス　　松田　維人

4. 「FEA電子源」
日本電気・シリコンシステム研　　小沼　和夫、竹村　久、岡本　明彦

5. 「MIM電子源の電子放出特性と平面ディスプレイへの応用」
日立製作所・日立研究所　　楠　敏明、鈴木　陸三、佐川　雅一、辻　和隆

6. 「放射顕微鏡を用いたFEAの均一性評価」
室蘭工業大学・電気電子工学科　　安達　洋、中根　英章

7. 「光励起方式による極単色電子源の検討」
日立製作所・中央研究所　　大嶋　卓

8. 「電子ビーム直接描画装置の現状と課題」
アドバンテスト　　安田　洋

9. 「EBマスク描画装置HL-900M」
日立製作所・計測器グループ　　水野　一亥、中原　哲二、松坂　尚、河崎　勝浩
日立製作所・中央研究所　　佐藤　秀寿、早田　康成、斉藤　徳郎

10. 「EBステッパー」
ニコン　　山口　武

11. 「電子ビーム用Siステンシルマスク技術」
HOYA・エレクトロオプティクス　　雨宮　勲

12. 「部分一括電子ビーム露光装置の評価」
半導体先端テクノロジーズ　　山部　正樹

13. 「電子ビーム中における電子間クーロン相互作用のモンテカルロシミュレーション」
名城大学・理工学部　　下山　宏

14. 「マスク散乱電子とのクーロン相互作用を考慮した部分一括露光電子ビームシミュレーション」
大阪工業大学・工学部　　小寺　正敏

15. 「マルチビームのクーロン効果」
大阪大学・超高圧電子顕微鏡センター　　鷹岡　昭夫

1.「Defect Review SEMの現状」
日本電子・応用研究センター　　青柳　貞夫
日本電子・半導体機器技術本部　　高嶋　進

2. 「LSI配線形成プロセス装置内パーティクルのin situモニタとパーティクルフリー」
NEC・エレクトロンデバイス評価技術開発本部　　上杉　文彦

3. 「 Electron, Ion and Photon Beam Technology and Nanofabrication (EIPBN 2000)」
NEC基礎研究所　　落合　幸徳

1.「高濃度Siドープ窒化アルミニウムからの高効率フィールドエミッション
NTT物性科学基礎研究所　　嘉数　誠

2. 「新しい概念の高速マルチEB描画(MEBDW)方式について」
キャノン・ナノテク研究所　　奥貫　昌彦、村木　真人、後藤　進

3. 「描画用マルチ微小電子線源の概念」
京都大学・工学研究科　　石川　順三

4. 「マルチ・マイクロコラムの電磁気学的・電子光学的考察」
大阪大学・超高圧電子顕微鏡センター　　鷹岡　昭夫

5. 「マイクロ・コラムの現状と電子ビーム描画への適用課題」
姫路工業大学・高度産業科学技術研究所　　松井　真二

1.「リソグラフィ技術の課題と展望」
超先端電子技術開発機構　　石谷　明彦

2. 「ArF、F₂リソグラフィ装置の現状と展望」
ニコン・半導体露光装置事業部　　亀山　雅臣

3. 「光リソグラフィ技術のデバイス応用と期待」
NEC・エレクトロンデバイス　　安里　直生、山名　慎治

4. 「Ｘ線露光技術の現状と展望」
超先端電子技術開発機構　　松井　安次

5. 「EUVLの現状と展望」
超先端電子技術開発機構　　岡崎　信次

6. 「電子ビーム露光技術の現状と展望」
日立製作所・中央研究所　　斉藤　徳郎

7. 「ナノインプリント技術の現状と展望」
NTTエレクトロニクス　　玉村　敏昭
NTT・物性科学基礎研究所　　横尾　篤

1.「HL-900Dにおけるセルプロジェクション技術」
日立製作所　　川野　源、伊藤　博之、松坂　尚、河崎　勝浩、早田　康成、斉藤　徳郎

2. 「ブロック露光電子ビーム描画装置F5112」
アドバンテスト　　坂本　樹一

3. 「 EBステッパー」
ニコン　　山口　武

4. 「電子ビームマスク描画装置技術」
東芝研究開発センター　　西村　慎祐

5. 「電子ビームマスク描画装置」
日本電子　　中川　泰俊、高嶋　進

6. 「EPLマスク技術」
半導体先端テクノロジー　　山下　浩

7. 「エッジラフネス評価(ERE)法を用いたLEEPL解像度予測」
ソニー　　守屋　茂

8. 「EPLにおける空間電荷中和のシミュレーション」
富士通研究所　　高橋　公俊、Liqun Han、R. Fabian Pease、W. Dan Meisburger

9. 「面電子源を用いた電子ビーム描画技術の基礎検討」
日立製作所中央研究所　　谷本　明佳、太田　洋也、早田　康成、斎藤　徳郎

10. 「低加速EB直接描画技術（SoCデバイスに対するリソグラフィ戦略）」
東芝セミコンダクター　　杉原　和佳

1.「収差補正レンズの研究開発と展望」
産業技術総合研究所　　岡山　重夫

2. 「低加速収差補正SEMの試作」
日本電子　　本田　和広、高嶋　進

3. 「 EBリソグラフィーにおける回転対称図形描画法とその応用」
クレステック　　大井　英之
産業技術総合研究所　　阿刀田　伸史

4. 「国際会議報告EIPBN」
産業技術総合研究所　　古室　昌徳
半導体先端テクノロジーズ　　山下　浩

1.「ナノインプリント技術の現状と展望」
産業技術総合研究所　　古室　昌徳

2. 「集束イオンビームによる超微細立体構造形成技術」
姫路工業大学　　松井　真二
セイコーインスツルメンツ　　皆藤　孝
NEC基礎研究所　　藤田　淳一、石田　真彦、落合　幸徳

3. 「真空マイクロ国際会議報告」
京都大学工学研究科　　石川　順三

4. 「5th Int. Workshop on High Throughput Charged Particle Lithography」
日立製作所中央研究所　　斉藤　徳郎

5. 「MNE2001国際会議報告」
NEC基礎研究所　　落合　幸徳

1.「電子線直描技術のデバイス応用」
日本電気　　小島　義克、藤井　清

2. 「SeleteのEPLプログラム」
半導体先端テクノロジーズ　　山部　正樹

3. 「 セルプロジェクション技術」
日立ハイテクノロジーズ　　川野　源、伊藤　博之、松坂　尚、河崎　勝浩

4. 「BLOCK　EB露光技術」
アドバンテスト　　安田　洋

5. 「ASETでのマスク用電子ビーム描画装置研究開発の成果」
東芝研究開発センター 東条　徹、小笠原　宗博、明野　公信、西村　慎祐
三井　壮一郎、清水　みつ子

6. 「電子ビームマスク描画装置」
日本電子　　中川　泰俊、駒形　正、後藤　信男、田中　一光

7. 「ＥＢレジスト」
ＪＳＲ　　甲斐　敏之、下川　努、齋藤　明夫、西山　覚

8. 「EBステッパー　－最近の進展－」
ニコン　　河田　真太郎

9. 「電子線マスク技術」
ＨＯＹＡ 雨宮　勲、高見沢　充、木村　生、安松　諭史
桜井　正、酒屋　典之、流川　治

10. 「ＬＥＥＰＬ用ステンシルマスク」
ＮＴＴアドバンステクノロジ 小田　政利、入口　裕基、本吉　彰、田畑　卓三
高橋　進、栗原　健二

11. 「ナノ電子ビーム描画装置とその応用技術」
エリオニクス　　上柿　順一

12. 「高分解能ＥＢリソグラフィーのナノデバイス加工技術」
クレステック　　大井　英之、林　國人、小林　一彦、宮崎　武司
産業技術総合研究所　　富永　淳二、 阿刀田　伸史、桑原　正史

13. 「非共振型超音波モータ駆動ステージの開発とそれを応用した電子線描画装置
東京テクノロジー　　小坂　光二、奥寺　智
熊本テクノロジー 高田　真次、岩渕　哲也、江頭　義也
熊本大学 永本　恵市、原田　崇、遠藤　泰史、橋口　弘幸
森園　靖弘、中田　明良、久保田　弘
東北大学　　大見　忠弘

14. 「電子ビーム測長装置」
日立ハイテクノロジーズ　　笹田　勝弘、飯泉　孝、大高　正

15. 「レチクルマスク用CD-SEMにおける測定再現性について」
ホロン　　山藤　泉、佐藤　賢司、高橋　克幸、安宅　正志、穴澤　紀道

16. 「EB描画フィールド接続精度計測のためのSEM2次元計測システム」
日本電子　　斎藤　学、本田　和広、則岡　節雄、島田　宏、伊達　直毅
半導体先端テクノロジーズ　　塘　洋一、山部　正樹

17. 「電子ビームによる高密度光ディスクマスタリング」
パイオニア　　熊坂　治、飯田　哲哉、勝村　昌弘、和田　泰光、横川　文彦

1.「イオンビームを利用したGCの表面改質とDLCの密度決定」
理化学研究所　　岩木　正哉

2. 「ハイブリッド・パルスプラズマ・コーティングシステムの開発」
金沢工業大学　　作道　訓之
石川工業試験場　　粟津　薫、安井　治之

3. 「第９回イオン源に関する国際会議報告」
京都大学　　石川　順三

4. 「REI-11およびSMMIB-2001国際会議報告」
京都大学　　辻　博司

1.「陰極の高輝度化と安定化の動向」
室蘭工業大学　　安達　洋

2. 「高分解能モノクロメーター、エネルギーアナライザーの開発」
日本電子　　津野　勝重、向井　雅貴、本田　敏和、成瀬　幹夫
東北大学多元研究所　　田中　通義、寺内　正己、津田　健治、斉藤　晃

3. 「 Monochromized 200kV TEM」
FEI Electron Optics Peter Tiemeijer、J.H. van Lin Hans
B.H. Freitag Bert、A.F. de Jong Frank

4. 「電子ビームによる微細パターン計測技術」
東芝セミコンダクター　　三好　元介

5. 「電子ビームリソグラフィ用電子光学系」
日立ハイテクノロジーズ　　斉藤　徳郎

6. 「画像処理に基づいたTEMとSTEMに関する無収差位相差顕微鏡法」
大阪電気通信大学　　生田　孝

7. 「光電子スペクトロホログラフィーによる表面構造解析」
東京理科大学　　二瓶　好正

8. 「 多層膜導波路を用いたＸ線顕微鏡」
京都大学　　河合　潤

9. 「FIB-CVDを用いた極微細三次元構造体形成技術」
セイコーインスツルメンツ　　皆藤　孝

1.「LSIデザインルール100nm以下向けマスク描画装置EBM-4000の開発」
ニューフレアテクノロジー 服部　芳明、滝川　忠宏、小川　洋司、服部　清司
室岡　賢一、阿部　隆幸、安田　聡、宇野　太賀
村上　英司、中山田　憲昭、下村　尚治、山下　剛
山田　昇、酒井　章宏、本田　博彦、下山　俊明
中曽　潔、井上　英郎、鬼丸　義明、槙山　敬一

2. 「電子ビームマスク描画機HL-7000M」
日立ハイテクノロジーズ　　松岡　玄也

3. 「 回転ステージ電子線描画装置EBW-7500Cの開発」
エリオニクス 小島　靖彦、伊藤　高臣、横田　克己、布川　博
小野　進、堀田　昌直

4. 「電子ビームリソグラフィの磁気ヘッド加工への応用」
アドバンテスト　　黒川　正樹、山田　章夫

5. 「EPLステンシルマスク用高速欠陥検査装置の開発」
ホロン　　穴澤　紀道、中村　直行
東京精密　　丸山　聡
半導体先端テクノロジーズ　　山部　正樹

6. 「FIBによるマスク欠陥修正技術」
セイコーインスツルメンツ　　八坂　行人

7. 「低加速EBを用いたマスクレス描画」
東芝セミコンダクター社 中杉　哲朗、安藤　厚司、稲根　良市、太田　拓見
佐々木　紀昭、長野　修、山崎　裕一郎、杉原　和佳、森　一朗
東京大学　　三好　元介、奥村　勝弥

8. 「 LEEPL（低加速電子線近接転写装置）の開発状況」
リープル　　吉田　彰、笠原　春夫、樋口　朗、野末　寛、遠藤　章宏

9. 「EBステッパー（EPL）の開発状況」
ニコン　　沖野　輝明

1.「イオン注入層の３次元電子顕微鏡による評価」
理化学研究所　　小林　知洋、岩木　正哉

2. 「バイポーラ・パルスを利用したプラズマ・イオン注入法」
産総研中部センター　　宮川　草児、宮川　佳子

3. 「 大量生産用イオンビーム表面処理装置の特性―プラズマディスプレイパネルの応用例―」
京都大学　　井出　亜里、安井　敬人、野村　洋志

4. 「第１３回イオンビームによる材料改質国際会議(IBMM2002)報告」
大阪大学　　弓場　愛彦

5. 「IIT2002国際会議報告」
京都大学　　辻　博司

1.「EIPBN2003会議報」
NEC基礎研究所　　落合　幸徳

2. 「ナノ・インプリント技術」
大阪府立大学　　平井　義彦

3. 「 光インプリント技術」
産業技術総合研究所　　廣島　洋

4. 「ナノインプリント技術の光デバイスへの応用
NTT物性科学基礎研究　　横尾　篤

1.「走査型トンネル顕微鏡を用いた微細Siデバイス中の２次元キャリア分布評価」
富士通研究所　　福留　秀幌
富士通　　有本　宏

2. 「集束イオンビーム加工法と電子線ホロフラフィーを用いた半導体内部電位分布の評価」
名古屋大学　　佐々木　勝寛、坂　公恭
JFCC　　王　洲光、平山　司
アイテス　　加藤　直子
松下テクノリサーチ　　藪内　康文

3. 「高感度STEM-EDXによるMOSデバイス中ASエクステンションの解析」
日立中央研究所　　常田　るり子、高口　雅成

4. 「不純物原子分布の原子分解能STM計測」
産総研　　西澤　正泰、金山　敏彦

5. 「MNE2003国際会議報告」
NEC基礎研究所　　落合　幸徳

1.「材料研究のための陽電子分析装置」
理化学研究所　　斉藤　文修、岩木　正哉

2. 「負イオン注入技術とその応用」
京都大学　　石川　順三、辻　博司、後藤　康仁

1.「EIPBN2004国際会議報告」
兵庫県立大学・高度産業科学技術研究所　　松井　真二

2. 「高電圧電子線トモグラフィーの特徴と応用」
大阪大学・超高圧電子顕微鏡センター　　鷹岡　昭夫

3. 「高濃度SiドープAlNフィールドエミッションの三極管型FED基本構造における特性評価」
NTT物性科学基礎研究所　　谷保　芳孝、嘉数　誠、牧本　俊樹

4. 「集束イオンビームによる立体ナノ構造形成とその応用」
兵庫県立大学・高度産業科学技術研究所、CREST JST　　松井　真二

1.「電子ビームリソグラフィにおける多層構造のための三次元近接効果補正」
富士通（株）　　荻野　宏三、大澤　森美、有本　宏、星野　裕美、町田　泰秀

2. 「走査電子顕微鏡における収差補正およびその自動化」
日本電子（株）　　宇野　忍、本田　和広、中村　奈津子、松谷　幸
CEOS GmbH　　Joachim Zach

3. 「 大面積電子ビームによる金型の鏡面加工と表面改質」
岡山大学工学部　　宇野　義幸

4. 「電子ビーム装置と加工事例」
多田電機（株）　　野口　洋

1.「多極子系と電子鏡系による対物レンズ収差補正：解説」
大阪大学　名誉教授　　裏　克巳

2. 「低加速ＣＰ(セルプロジェクション)露光」
（株）イービーム　　安藤

3. 「ＣＰ露光技術について」
(株)アドバンテスト　　山田　章夫

4. 「ＥＢ露光の最近の進展」
（株）富士通　　丸山　隆司

5. 「LEEPL(低加速電子線近接転写装置)の開発状況」
（株）リープル 開発部門　　遠藤　章宏

6. 「EBステッパー(EPL)の開発状況」
（株）ニコン　　宇田川　仁

1.「ハイブリッドナノダイアモンド(HND)膜の開発」
金沢工業大学・高度材料科学研究開発センター　　作道　訓之

2. 「PBII&Dプロセスによる立体形状物への厚膜DLC形成」
兵庫県立大学大学院工学研究科　　八束　充保

3. 「 ＣＰ露光技術について」
(株)アドバンテスト　　山田　章夫

4. 「PIII/DにおけるプラズマのPIC-MCC法による計算機シミュレーション」
産業技術総合研究所・中部センター　　宮川　佳子

5. 「IBMM2004およびIIT2004国際会議報告」
京都大学大学院工学研究科　　高岡　義寛

1.「EIPBN2005国際会議報告」
兵庫県立大学　高度産業科学技術研究所　　松井　真二

2. 「日立の熱インプリント装置技術とその応用展開」
（株）日立製作所　日立研究所　材料研究所　　宮内昭

3. 「 Molecular ImprintのLSI用光ナノインプリント装置と性能」
ケーエルエー・テンコール(株)　　溝口裕夫

4. 「ナノインプリントマスク技術に関する展望」
HOYA(株)先端リソグラフィ開発センター　　流川治、白川洋一

1.「CeB₆（CeBix）電子源とその応用」
島津製作所　　三田村茂宏

2. 「走査電子顕微鏡の分解能評価法－日本からのISO規格化提案－」
日立ハイテクノロジーズ　　佐藤　貢

3. 「４・8極子によるレンズ収差補正に関するRose三部作の全訳」
大阪大学名誉教授　　裏　克己

4. 「Wien型多極子で見る負の収差の作り方」
日本電子　　津野勝重

5. 「FIB・SEM複合装置の技術とその応用」
エスエスアイ・ナノテクノロジー　　八坂行人

1.「　1. Defect Review SEMの現状」
日本電子・応用研究センター　　青柳　貞夫
日本電子・半導体機器技術本部　　高嶋　進

2. 「LSI配線形成プロセス装置内パーティクルのin situモニタとパーティクルフリー」
NEC・エレクトロンデバイス評価技術開発本部　　上杉　文彦

3. 「 Electron, Ion and Photon Beam Technology and Nanofabrication (EIPBN 2000)」
NEC基礎研究所　　落合　幸徳

4. 「クラスターイオンビームによる浅い接合形成とデバイスへの応用」
富士通研究所　　後藤　賢一、杉井　寿博
京大工　　松尾　二郎、山田　公

5. 「EBマスク描画機の現状」
（株）ニューフレアテクノロジー　営業統括部　　服部　清司

1.「イオン注入装置の現状と将来の課題」
日新イオン機器（株）・I/I事業センター　　酒井　滋樹

2. 「ECRイオン源による多価イオン生成」
理化学研究所・フロンティア研究システム　　中川　孝秀

3. 「 重粒子線がん治療への放射性炭素ビームの応用」
放射線医学総合研究所・加速器物理工学部　　北川　敦志

4. 「SMMIB05国際会議報告」
埼玉工業大学・工学部　　岡部　芳雄